激光直寫光刻機是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng)，它通過固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu)，直寫面積高達(dá)4英寸，特征尺寸（寬度）可達(dá)1微米。

    激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的特點。

    激光直寫多個藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動切換高分辨激光，并對需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計在加工速度和分辨率之間取得了好的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計完整保證了其靈活性。激光直寫內(nèi)置自動對焦系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)基片臺在Z方向的位置，對基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動對焦。只需單擊軟件上的對焦鍵就能完成對新放入的基片對焦。

    激光直寫與一些其他自動對焦系統(tǒng)對基片小尺寸有要求不同，自動對焦可以用到極小的樣品上，適用于對單個壓模的書寫。對于表面不平的基片，可以在曝光之前對其表面測繪，之后進(jìn)行曝光的同時中可以自動校正對焦。確切的書寫速度取決于曝光圖案，大部分研發(fā)用圖案是由大面積區(qū)域（線、帶、塊）和少量的細(xì)小尺寸結(jié)構(gòu)組成的。

    激光直寫通過自動結(jié)合高速平行書寫和高分辨書寫，可以的得到180mm2/min的有效書寫速度，對于需要進(jìn)行大面積細(xì)小結(jié)構(gòu)書寫的基片，曝光時間會相應(yīng)增長。激光直寫技術(shù)是一種近年來應(yīng)用廣泛的超精密加工技術(shù)，該技術(shù)是一種利用強度可變的激光束，在基片表面實施有規(guī)則的高精度掃描。在掃描過程中，光刻基片隨載物平臺而運動。因此影響光刻元件的質(zhì)量取決于載物平臺的定位精度以及運動的穩(wěn)定性，影響光刻元件的快速性取決于系統(tǒng)的響應(yīng)度。